Jak powstaje filtr Bayera?


9

Po wcześniejszym pytaniu na temat filtrów Bayera zastanawiałem się:

Jak są one faktycznie produkowane? Jak nakładają tak małą ilość barwnika na każdy subpiksel?

Moim zdaniem będzie to trawienie chemiczne oparte na optyce, a następnie kąpiel farbiarska ... (na kolor)


1
pl.wikipedia.org/wiki/Color_filter_array ma sekcję dotyczącą procesu produkcyjnego
— dav1dsm1th

Oooh, dobre miejsce! @ dav1dsm1th - dziwne, że wiki wiki filtru bayera nie wspomina o tym procesie, przeczytam ...
— Digital Lightcraft

Odpowiedzi:


3

Z streszczenia tego artykułu Matryca filtrów kolorów dla czujników obrazu CCD i CMOS wykorzystujących chemicznie wzmocniony termicznie utwardzony, wstępnie barwiony fotorezyst z dodatnim tonem do litografii 365 nm

Fotorezyst diazonafto-chinonowo-nowolakowy jest stosowany do wytwarzania tych filtrów przez sukcesywne osadzanie i modelowanie każdej warstwy koloru.

Rozumiem ten cytat, że proces jest następujący

  1. Fotorezyst (polimer i środek uczulający, który jest względnie przezroczysty w widzialnym, ale silnie absorbujący w UV od 450 nm) z dodatkiem barwnika (czerwony, zielony lub niebieski) osadza się na powierzchni czujnika
  2. Nad fotorezystem umieszczona jest maska ​​z metalowym wzorem
  3. Odmaskowany obszar fotorezystu jest eksponowany przez źródło światła UV, na które przekształca się diazonafto-chinon
  4. Maska jest usunięta
  5. Odsłonięty element fotolitograficzny rozpuszcza się w wodnym rozpuszczalniku, nienaświetlony obszar nie rozpuszcza się tak łatwo i dlatego pozostaje
  6. 1-5 są powtarzane przy użyciu różnych barwników i różnych masek

Zobacz en.wikipedia.org/wiki/Diazonaphthoquinone w celu uzyskania opisu działania tego fotorezystora.


Podejrzewam, że powinien być krok pieczenia między 5 a 6 lub po 6. Może być też krok pieczenia między 1 a 2.
— Brian Kubera,

Ładny link - jednak artykuł ma już 16 lat, więc biorąc pod uwagę MASYWNY wzrost gęstości chipów ccd / cmos, ponieważ może to nie być obecna metoda ... na przykład, czy fizycznie możliwe jest stworzenie metalowej maski wystarczającej do dzisiejsze żetony?
— Digital Lightcraft,

Czy to ogromny wzrost? Myślę, że gęstość pikseli wzrosła około 10 razy. Liniowy rozmiar elementu musiałby zatem zmniejszyć się tylko o współczynnik 3. Prawdopodobnie masz rację, wskazując, że umieszczenie maski bezpośrednio nad fotorezystem jest prawdopodobnie nie jak się to robi. Jest to o wiele bardziej podobne do tego, że maska ​​jest obrazowana na fotorezystie i jednocześnie zmniejszana, co byłoby konieczne do wzornictwa urządzeń elektronicznych czujnika. Przeredaguję odpowiedź, aby to odzwierciedlić.
— Brian Kubera,

Po dalszych rozważaniach myślę, że maska ​​kontaktowa, jak to wcześniej opisałem, jest bardziej prawdopodobna do wzornictwa filtra kolorów. Rozdzielczość metalowej maski może być lepsza niż 100 nm. Rozmiar piksela jest rzędu 1um.
— Brian Kubera,

Jednym z problemów, których nie uwzględniłem, jest tworzenie matrycy mikrosoczewek, która, jeśli jest obecna, może oddzielić lub zintegrować część filtra kolorów.
— Brian Kubera,
Korzystając z naszej strony potwierdzasz, że przeczytałeś(-aś) i rozumiesz nasze zasady używania plików cookie i zasady ochrony prywatności.
Licensed under cc by-sa 3.0 with attribution required.